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論文側邊製作的問題，我們搜遍了碩博士論文和台灣出版的書籍，推薦HowardR.Winokuer,DarcyL.Harris寫的 悲傷諮商：原理與實務 可以從中找到所需的評價。
中原大學 設計學博士學位學程 黃承令所指導 何黛雯的 文化資產空間敘事之研究 （2021），提出論文側邊製作關鍵因素是什麼，來自於文化資產、空間敘事學、歷史場所、場所精神、空間意識、文化地理學、文化地理學。
而第二篇論文國立中山大學 光電工程學系研究所 王俊達所指導 徐子軒的 利用標準CMOS製程來開發並製作低損耗氮化矽波導 （2021），提出因為有 氮化矽、平面波導、矽光子、邊緣耦光、波導損耗的重點而找出了 論文側邊製作的解答。
悲傷諮商：原理與實務
為了解決論文側邊製作 的問題，作者HowardR.Winokuer,DarcyL.Harris 這樣論述：
本書適用於大學生和研究生層級的核心和入門課程，是第一本兼具諮商心理學知識與技巧和當代悲傷與喪慟研究的教科書。本書認為悲傷諮商有別於其它的治療議題，因為悲傷是一個適應性的反應，而非病理特徵。本書闡述悲傷的獨特面向，是遭受失落時的正常反應，悲傷諮商的目標則在催化喪慟者開展自身已有的健康和適應的歷程。死亡或非死亡的失落事件皆會引發悲傷反應。本書亦闡釋悲傷的心理、生理、社會、經濟和實務經驗。 本書介紹各種喪慟理論，並檢視不同的治療模式如何運用在悲傷與失落上，探討諮商實務現場中可以強化治療效果的特殊介入策略。作者特別強調「陪伴」是處遇喪慟者時最重要的治療態度。本書也說明特殊
群體的悲傷諮商、專業倫理、諮商師的自我照顧等議題。每一章皆包含案例研究、討論與反思問題、推薦資源等等。 本書特色 ● 悲傷是適應性的反應，而非病理特徵。視悲傷治療為獨特的諮商形式。 ● 兼具諮商心理學知識與技巧和當代悲傷與喪慟研究。 ● 由超過60年悲傷諮商服務經驗的知名臨床工作者和教育者撰寫而成。 ● 強調「陪伴」的重要性，是處遇喪慟者時最重要的治療原則。
文化資產空間敘事之研究
為了解決論文側邊製作 的問題，作者何黛雯 這樣論述：
本文探討台灣文化資產保存的價值如何被人們所理解，如何透過空間敘事的方法，作為意義的創造，進而成為理解文化資產的取徑。文化資產作為敘事的文本（text）或事件（event）的見證，事件往往發生於特定空間與時間之中，為歷史敘事中以空間作為敘事主體的方法取向，作為解釋或理解事件的特殊方式。歷史場所的整體性討論亦關乎保存價值特徵的詮釋與呈現，以及場所精神（Genius Loci）的意義述說。文化資產空間的敘事，以敘事視為詮釋的方法，作為一種行動或再現，意義透過主體意識的視域開展得以體會，而當主體意識進行敘事的表述，也如同濾鏡般的再現或詮釋所謂真實的探究。本文考察臺灣文化資產保存修復實務上，對於文化資
產所在的歷史場所的整體性與真實性保存觀念的時勢問題。在城市現代化過程的徵候，重新觀看文化資產空間作為社會產物以及使用價值，建構文化資產空間敘事的方法，透過以空間作為敘事主體的歷史書寫詮釋，以助於文化資產的理解與保存。而在文化資產敘事空間的設計與詮釋呈現，將論及如何透過空間的再現來創造意義，空間的敘事與空間的設計生產作為地方創造的方法。研究方法主要以文獻史料收集、實地田野觀察、測繪與深度口述歷史訪談以建構空間敘事文本內容，包括：實存空間敘事文本、歷史空間敘事文本、行動空間敘事文本，以及經驗空間敘事文本的建構，透過言談分析與敘事研究的方法進行空間敘事的工作，敘事也視為文化社會行動，主體經驗生產與自
我教習的過程。本研究建構文化資產空間敘事的方法學，包括：文化資產空間的敘事特徵與意義創造；文化資產敘事空間的設計與詮釋呈現；文化資產詮釋行動與地方創造，透過文獻理論評析到實務經驗的案例樣本研究，探討論述與實踐之間的困境與契機。研究結論：首先透過空間敘事研究多樣文本內容的研究，作為理解文化資產生命的取徑，強調歷史場所「存在」的重要，透過人地共生的關懷，文化資產保存的行動、參與、詮釋與實踐的過程，共譜文化資產空間的生命敘事。第二，強調在地參與的詮釋行動，開展以人為本的永續實踐，進而由物質性保存轉向文化社會理解，參與在地行動的強調，有助於文化價值與當代重新連結，以共創未來，以場域脈絡性的保存思維，落
實文化保存於民眾生活之中，亦為文化資產從再利用到再生活化的期待。第三，藉由空間敘事的詮釋行動，作為主體經驗生產與社會自我教習場域，經由社會力的啟動到再社會化的體現，透過文化資產價值特徵的指認與共同經驗的再生產，以再塑地方感，亦即經由再社會化過程，導引出文化資產對於城市公民的意義，並建構文化資產空間敘事作為中介文化空間治理分析模型與文化資產敘事空間設計的詮釋內容與方法架構。
利用標準CMOS製程來開發並製作低損耗氮化矽波導
為了解決論文側邊製作 的問題，作者徐子軒 這樣論述：
矽光子學為基於絕緣層上的矽晶片基板平台來實現高密度光子與電子元件積體整合電路的技術，其優勢為能夠整合半導體製程技術達到低成本的優勢，並結合光通訊的高頻寬、長距離傳輸和高抗電磁干擾特性。目前矽光子主要以矽材料為主，但在晶片上需要因應不同的需求，新型材料的研發對拓展矽光子應用領域極為重要。其中針對波導損耗考量，雖然矽的高折射率對比特性能夠實現小尺寸波導結構，但是對製程精準容忍度比較低。許多研究團隊選擇使用氮化矽作為波導的主要材料；在光學特性上氮化矽波導的折射率對比度略低於矽波導，具備較高的製程容忍度以及較低的光學損耗。此外，氮化矽於可見光和近紅外區域的吸收極低，因此能夠實現可見光以及近紅外光積體
光電元件。本研究論文目標為利用國家實驗研究院台灣半導體研究中心齊全的半導體產線來開發氮化矽波導平台並且製作低損耗氮化矽波導，希望藉由改善製程條件跟波導設計來實現低光學損耗特性。製程方面主要針對薄膜沉積跟蝕刻製程進行優化，我們利用三種氣相沉積薄膜機台來成長氮化矽薄膜，並且實際製作氮化矽波導。蝕刻製程則藉由優化蝕刻參數以及氧化濕蝕刻的方法來降低波導側壁的粗糙度，使其更加平滑。接著透過邊緣耦合和光學頻域反射儀兩種方式進行光學損耗量測，來比較不同薄膜下氮化矽波導的光學損耗。由量測結果顯示低壓化學氣相沉積系統於製作厚度為300奈米的氮化矽波導有較佳的光學損耗約3 dB/cm。進一步，我們也設計不同厚度的
單模波導結構，希望藉由扁平波導的設計來降低光於波導內傳播時，由於波導側壁的粗糙所導致的散射損耗。結果顯示300 跟200 奈米厚度氮化矽波導是相近，而100 奈米厚度波導由於量測插入損耗過大，而難以推算出其傳輸損耗。本論文已經成功利用台灣半導體研究中心設備建立氮化矽波導平台，並能夠成功的製作出傳播損耗為2-3 dB/cm的氮化矽波導，未來將會針對熱退火製程以及扁平波導的設計去進一步的降低其光學損耗。