雷射原理的問題，透過圖書和論文來找解法和答案更準確安心。 我們找到下列線上看、影評和彩蛋懶人包

半導體雷射技術（2版）

為了解決雷射原理的問題，作者盧廷昌,王興宗 這樣論述：

　　半導體雷射廣泛的存在於今日高度科技文明的生活中，如光纖通信、高密度光碟機、雷射印表機、雷射電視、雷射滑鼠、雷射舞台秀甚至雷射美容與醫療、軍事等不勝枚舉之應用都用到了半導體雷射。半導體雷射的實現可以說是半導體科技與光電科技的智慧結晶，同時也對人類社會帶來無與倫比的便利與影響。本書沿續「半導體雷射導論」由淺入深的介紹半導體雷射基本操作原理與設計概念，內容涵蓋了不同半導體雷射的構造與光電特性，以及半導體雷射的製程與信賴度，可為大(專)學四年級以及研究所一年級相關科系的學生與教師，提供有系統的學習半導體雷射的教科書，本書亦適用於想要深入了解半導體雷射的專業人員。

雷射原理進入發燒排行的影片

結合Breath Figure 週期性液滴透鏡之奈米雷射直寫加工技術

為了解決雷射原理的問題，作者黃彬勝 這樣論述：

　本研究為利用液滴透鏡輔助奈秒雷射於矽基板上加工奈米結構。開發的技術重點是利用Breath Figure法生成的高分子薄膜微孔模板，並在此模板上浸潤甘油來形成微米尺度之液態透鏡陣列，做為雷射二次聚焦之透鏡，再結合雷射熔融基板材料形成微奈米結構的製造技術。　　在Breath Figure製作上，將Polystyrene、Polymethylmethacrylate與甲苯混合成高分子溶液，透過甲苯高揮發特性以帶走基板表面熱能，使環境中水分子冷凝於基板表面，待溶液蒸發完畢形成高分子微孔薄膜。本論文使用Dip Coating方式測試兩種拉升速度，900 mm/min與400 mm/min，以製作所需

之微孔薄膜。其所形成之微孔孔徑在拉升速度900 mm/min時介於 1.2 μm 至 3.8 μm之間，400 mm/min則是介於1 μm 至3.6 μm之間，而孔洞剖面為橢圓狀，在拉升速度900與400 mm/min膜厚分別為1.5、1.2 μm。　　接著於微孔孔洞內浸潤甘油形成甘油透鏡，將雷射光經由甘油透鏡二次聚焦達到熔融矽基板。在本研究中探討不同雷射功率與不同掃描間距對於所加工出結構之影響。其結果顯示在雷射以掃描間距20 μm、正離焦4.8 mm、雷射功率密度介於1.63×107~1.74×107 W/cm2能加工出矽微奈米結構，經由量測得知微峰結構直徑介於1.1~1.4 μm之間。在

拉升速度400 mm/min所加工出來的結構高度介於20~160 nm，而在拉升速度900 mm/min結構高度介於20~130 nm。

光電子學：原理、元件與應用(第六版)

為了解決雷射原理的問題，作者林螢光  這樣論述：

　　光電科技及光電裝置已大量應用在各種產業之中，本書介紹各類光電裝置之工作原理與光電轉換機制；有雷射原理與控制雷射光的方法、檢光器原理、半導體雷射、光波導器件等等。內容涵蓋主要之光電裝置，為一本廣度充足、深度適中的讀本！本書適用於大學、科大電子、電機系或研究所和產業界對光電有興趣之工程、研發人員使用。 本書特色 　　1.本書內容資料新穎並種類寬廣，是研習光電科技者最佳選擇。 　　2.本書介紹各類光電裝置之工作原理，分別有雷射原理與控制雷射光的方法、光檢器原理、顯示器、半導體雷射、光波導器等。是一本廣度充足、深度適中的讀本！ 　　3.中文編寫之高科技圖書，流暢易讀，學

習效果更甚市售英文光電書籍。

指紋辨識晶片雷射印字參數最佳化

為了解決雷射原理的問題，作者張哲士 這樣論述：

封裝製程中印字站的雷射印字一直都是許多封裝廠的重點要項，記憶體從一般型產品DDR SDRAM(Double Data Rate Synchronous Dynanic Random Access Memory)系列，在用途上從桌上型電腦到智能手機、車用電子產品、穿戴裝置等等，IC產品已逐漸邁向輕、薄的概念發展。近年來國際環保意識提升，對於產品規格要求甚多，開發人員在選擇材料搭配性研發時，遇到的相關問題更為瑣碎、複雜。半導體雷射印字，主要功能為IC身分識別。利用雷射光於IC表面燒刻出IC身份及客戶的生產履歷，以做為後續流程及異常追朔判斷依據。而當IC邁向輕、薄、短小概念發展時，雷射印字參數也需

同步調整。本研究探討半導體封裝產品雷射印字品質的影響，並以實驗設計進行實驗之探討與研究，以找出最佳化參數。研究結果影響雷射印字品質與電流和掃描速度相關，而印字品質的因子分別為雷射功率、印字移動距離、印字時間，以及雷射開關的頻率。